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2026-08-02 26 电子行业报告
光刻胶产业链研究报告（60页）
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2026年01月23日 08:58
管理员
光刻胶（Photoresist），又称光阻或光致抗蚀剂，是一类对紫外 光（UV）、极紫外光（EUV）、电子束等高能辐射敏感的有机功能 材料，广泛应用于印刷电路板（PCB）、显示面板和半导体芯片等领 域的光刻工艺中。在受到特定波长的高能光照后，光刻胶的化学结构 发生变化，导致其在显影液中的溶解度发生显著改变。通过这一特性， 被曝光区域可选择性地被溶解去除或保留，从而将掩模版上的图形精 确转移到基底表面，并与后续的刻蚀工艺协同，实现微纳尺度下的精 准图案化加工。
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