中国无掩膜光刻机行业报告（35页）

行业报告下载 2026年07月21日 07:30 管理员

光刻设备按照图形转移方式，可分为有掩膜光刻设备与无掩膜光刻设备两大类。其中，有掩膜光刻以实体掩膜版为载体实现图形复制，核心优势在于重复精度高、量产效率高，因而更适用于半导体前道及其他大批量、标准化制造场景；无掩膜光刻则直接以数字版图驱动曝光过程，无需预先制版，在产品切换频繁、工艺迭代快、批量相对分散的制造环境中更具适配性。从产业分工看，两类设备并非替代关系，而是分别服务于不同的工艺需求。有掩膜光刻仍是先进制程和高一致性批量复制的主流路径；无掩膜光刻则凭借柔性制造优势，在PCB直接成像、IC载板、先进封装、掩膜版写版及科研微纳加工等领域形成独立应用空间。随着电子制造向高密度、高迭代和多品种方向发展，无掩膜光刻的重要性持续提升，已成为光刻设备体系中不可忽视的细分技术路线。

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