湿电子化学品行业研究报告（28页）

行业报告下载 2020年03月09日 07:46 管理员

2018 年全世界湿电子化学品市场规模达到 52.65 亿美元，三大市场应用量达到 307 万吨，其中半导体市场应用量约 132 万吨，显示面板市场应用量约 101 万吨，太阳能电池领域应用量达到 74 万吨。预计到 2020 年三大应用市场湿电子化学品市场规模将达到 58.50 亿美元，复合增长率将达到 12.4%。我国在 21 世纪初湿电子化学品的生产量不足 5000 吨，发展到 2004 年达到了 1.1 万吨左右。自 2005 年以来，我国华东地区（主要指江阴-苏州地区）的湿电子化学品生产规模得到快速发展，国内生产企业获得我国 6 英寸以下的晶圆加工需求的主要的湿电子化学品市场。我国湿电子化学品产量在 2005 年以后呈两位数年增长率的增长，在 2008 年实际产量已达到了 4.6 万吨。2009 年～2010 年又因遇到太阳能电池、平板显示器等新市场需求量增加的机遇，驱动着我国湿电子化学品业在生产规模上有了大的飞跃。 18、19 年下游晶圆厂和面板厂大幅扩产的产能落地，18 年国内湿电子化学品产量增速回升至 10%以上，国内湿电子化学品市场空间进一步扩大。根据中国电子材料协会预测，到 2020 年国内湿电子化学品市场规模将达到 79.62 亿元，总需求量将达到 90.51 万吨。

需要对晶圆进行清洗，采用物理或化学的方法去除硅片表面的污染物和自身氧化物，要求既能去除各类杂质，又不损坏套片，这在集成电路生产过程中大约占据 20%的工序。不同工序的清洗要求和目的也各不相同，因此需要采取各种不同的清洗方法和技术手段，湿法化学清洗是较为常用的清洗方法，其采用的化学品品种情况如表 6 所示。蚀刻技术可以大致分为湿式蚀刻与干式蚀刻两种方式，目前湿式蚀刻运用广泛，因其操作简单、成本低廉、用时短且具有高可靠性、高的选择比。湿法刻蚀通过特定的溶液（湿电子化学品）与需要刻蚀的薄膜材料发生化学反应，除去光刻胶未覆盖区域的薄膜，湿电子化学品主要在湿式蚀刻加工过程中发挥功效。

湿电子化学品在半导体中应用中增速加快，随着我国半导体产业产能提升，规模量逐渐增加，湿电子化学品产量和行业规模也逐渐提高，2018 年国内半导体用湿电子化学品需求量达到 28.27 万吨，同比增长 22%。2018 年多数在建将晶圆厂建成投产，未来也将带来巨大的湿电子化学品需求，未来随着国产替代逐渐加深，产量和需求量将持续增长。根据中国电子材料协会预测，2020 年国内半导体用湿电子化学品需求量将达到 43.53 万吨。就各个具体类别的湿电子化学品来看，半导体用湿电子化学品中消耗量最大的是硫酸（占 32.7%），其他消耗量较大的湿电子化学品还有双氧水（占 28.4%）、氨水（占 8.3%）、显影液（占 6.3%）。

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