非金属新材料靶材行业报告：平板显示靶材市场（14页）

行业报告下载 2020年03月17日 06:45 管理员

根据中国电子材料行业协会预测，2016 年全球高纯溅射靶材市场规模约为 113.6 亿美元，其中平板显示用靶材为 38.1 亿美元，占比在 30%以上，是全球靶材最大的应用市场。2016 年我国平板显示（含触控屏）用靶材为 84 亿元，占国内靶材整体市场的 45%，是国内目前体量最大的靶材应用市场。根据《平板显示行业用金属溅射靶材的市场需求分析》，薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)大约占 80%以上的显示面板市场份额。用于制作薄膜晶体管液晶显示面板的金属靶材，以铝靶、铜靶、钼靶和钼铌合金靶为主，部分平板显示企业也会用到钛靶、钽靶、铌靶、铬靶以及银靶等。但由于各家企业所采用的溅射工艺不同，其所选的溅射靶材也有区别，例如，京东方用铜靶、铝靶、钼靶和钼铌靶，韩国三星用钽靶、钛靶，但不用钼铌靶，中电熊猫用钛靶，但不用钼靶、钽靶等。

平板显示镀膜用溅射靶材主要在显示面板和触控屏面板两个产品生产环节使用 PVD 镀膜材料。其中，平板显示面板的生产工艺中，玻璃基板要经过多次溅射镀膜形成 ITO 玻璃，然后再经过镀膜，加工组装用于生产 LCD 面板、PDP 面板及 OLED 面板等。触控屏的生产，则还需将 ITO 玻璃进行加工处理、经过镀膜形成电极，再与防护屏等部件组装加工而成。平板显示器对于溅射靶材的纯度和技术要求仅次于半导体。在溅射靶材应用领域中，半导体芯片对溅射靶材的金属材料纯度、内部微观结构等最为严苛。半导体领域的镀膜用靶材主要包括铝靶、钛靶、铜靶、钽靶、钨钛靶等，要求靶材纯度很高，一般在 5N（99.999%）以上。相较于半导体芯片，平板显示器对于溅射靶材的纯度和技术要求略低一筹，但随着靶材尺寸的增大，对溅射靶材的焊接结合率、平整度等指标提出了更高的要求。如江丰电子的高纯铝靶在超大规模集成电路芯片中通常要求达到 99.9995%（5N5）以上，而平板显示器、太阳能电池用铝靶的金属纯度略低，分别要求达到 99.999%（5N）、99.995%（4N5）以上。平板显示溅射靶材的制备按工艺可分为熔融铸造和粉末冶金两大类。纯金属铝、钛、铜，或是添加铜、钛、金、铌、钽等至少一种不同金属所形成的合金靶材多用熔融铸造法，而像钼这类难熔金属、ITO 等多用粉末冶金法。

溅射靶材需要严格控制材料纯度、致密度、晶粒度以及结晶取向，我们以钼靶材在平板显示领域的应用为例：  纯度:高纯度是对钼溅射靶材的一个基本特性要求。钼靶材的纯度越高,溅射薄膜的性能越好。一般钼溅射靶材的纯度至少需要达到99.95%，根据溅射的玻璃基板的尺寸以及使用环境,钼溅射靶材的纯度要求在 99.99%-99.999%，甚至更高达到99.9999%。

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