存储芯片又称半导体存储器,是电子数字设备中用于存储和读取的重要部件。 半导体产品主要可以分为分立器件、光电器件、传感器和集成电路等四大类。 其中存储芯...
2026-08-02 32 电子行业报告
IGBT制造的三大难点:背板减薄、激光退火、离子 注入。 IGBT的正面工艺和标准BCD的LDMOS区别不大, 但背面工艺要求严苛(为了实现大功率化)。具体 来说,背面工艺是在基于已完成正面Device和金属 Al层的基础上,将硅片通过机械减薄或特殊减薄工 艺(如Taiko、Temporary Bonding 技术)进行减薄 处理,然后对减薄硅片进行背面离子注入,如N型掺 杂P离子、P型掺杂B离子,在此过程中还引入了激 光退火技术来精确控制硅片面的能量密度。 特定耐压指标的IGBT器件,芯片厚度需要减薄到 100-200μm,对于要求较高的器件,甚至需要减薄 到60~80μm。当硅片厚度减到100-200μm的量级, 后续的加工处理非常困难,硅片极易破碎和翘曲。IGBT模块重视散热及可靠性,封装环节附加值高。
IGBT模块在实际应用中高度重视散热性能及 产品可靠性,对模块封装提出了更高要求。此外,不同下游应用对封装技术要求存在差异,其中 车规级由于工作温度高同时还需考虑强振动条件,其封装要求高于工业级和消费级。设计升级方面主要是:1)采用聚对二甲苯进行封装。聚对二甲苯具有极其优良的导电性能、 耐热性、耐候性和化学稳定性。2)采用低温银烧结和瞬态液相扩散焊接。在焊接工艺方面, 低温银烧结技术、瞬态液相扩散焊接与传统的锡铅合金焊接相比,导热性、耐热性更好,可靠 性更高。 材料升级方面主要是:1)通过使用新的焊材,例如薄膜烧结、金烧结、胶水或甚至草酸银, 来提升散热性能;2)通过使用陶瓷散热片来增加散热性能;3)通过使用球形键合来提升散热 性能。

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